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射頻反應磁控濺射制備氧化鉻薄膜技術及性能

熊小濤 閻良臣 楊會生 王燕斌

熊小濤, 閻良臣, 楊會生, 王燕斌. 射頻反應磁控濺射制備氧化鉻薄膜技術及性能[J]. 工程科學學報, 2005, 27(2): 205-208,212. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2005.02.050
引用本文: 熊小濤, 閻良臣, 楊會生, 王燕斌. 射頻反應磁控濺射制備氧化鉻薄膜技術及性能[J]. 工程科學學報, 2005, 27(2): 205-208,212. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2005.02.050
XIONG Xiaotao, YAN Liangchen, YANG Huisheng, WANG Yanbin. Deposition technology and properties of chromium oxide coatings by RF reactive sputtering[J]. Chinese Journal of Engineering, 2005, 27(2): 205-208,212. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2005.02.050
Citation: XIONG Xiaotao, YAN Liangchen, YANG Huisheng, WANG Yanbin. Deposition technology and properties of chromium oxide coatings by RF reactive sputtering[J]. Chinese Journal of Engineering, 2005, 27(2): 205-208,212. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2005.02.050

射頻反應磁控濺射制備氧化鉻薄膜技術及性能

doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2005.02.050
基金項目: 

國防科學技術委員會資助項目(No.MKPT-0475)

詳細信息
    作者簡介:

    熊小濤(1959-),男,高級工程師

  • 中圖分類號: TG174.44;O484.4

Deposition technology and properties of chromium oxide coatings by RF reactive sputtering

  • 摘要: 研究了采用射頻反應濺射方法制備氧化鉻耐磨鍍層的技術和薄膜的性能.結果表明,采用金屬靶材進行射頻反應濺射時,由于靶材與反應氣體的反應,會出現兩種濺射模式,即金屬態濺射和非金屬態濺射,非金屬態濺射模式的沉積速率很低.氧化鉻薄膜的硬度主要決定于薄膜中Cr2O3含量,在供氧量不足時會生成低硬度的CrO,制備高硬度氧化鉻薄膜需要采用盡可能高的氧流量進行濺射.采用在基片附近局域供氧,可以實現高濺射速率下制備出高硬度的氧化鉻薄膜.

     

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出版歷程
  • 收稿日期:  2004-09-06
  • 修回日期:  2004-11-02
  • 網絡出版日期:  2021-08-17

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